具備高(gao)過濾精(jing)度和高(gao)耐腐蝕性(xing)(xing)等特(te)性(xing)(xing)的(de)(de)陶瓷過濾器(qi)，高(gao)水平的(de)(de)去除(chu)氣體管道內(nei)的(de)(de)粒子，同(tong)時實現高(gao)選(xuan)擇性(xing)(xing)。（可以(yi)滿足(zu)200℃高(gao)溫烘干、H20濃度消(xiao)減到(dao)5ppb以(yi)下(xia)）

• 對于亞微米LSI工藝，須向使用點供應高純度工藝氣體。為此，超清潔管道也是一個主要問題。為了滿足這些要求，Pureron Japan開發了使用陶瓷作為過濾元件的全新過濾器，并在穩定條件下實現了0.003μm的高精度過濾。蝕刻和薄膜所需的高選擇性。
• 去除諸如水和氧的雜質對于尋求高選擇性是非常重要的。為了確保去除雜質，高溫烘烤是必不可少的。Pureron Japan的陶瓷過濾器就是從這個角度開發的，可以在200°C下進行高溫烘烤。通過免維護操作降低成本。
• 三層過濾結構，取決于顆粒直徑的大小，很少產生堵塞。與傳統過濾器相比，陶瓷過濾器還具有良好的耐久性和耐熱性。因此，生產停工造成的損失很小，實現了長期成本降低。

過(guo)濾烘烤：200°C，2小時(shi)

金屬帽

對于PGF-8型大流(liu)量，請聯系我們。

去除率：0.003μm

建(jian)議流速：10 ? 200L/min.

20℃時的設計壓力：17MPa（2465PSIG）

正常工作壓力(li)：小于(yu)1MPa（145PSIG）

20℃時允許(xu)壓差：max.9.6MPa（1392PSIG）

連續使用溫度(du)：max.120℃

烘烤溫度：200℃

外部泄漏量：2×10−11Pa?立方米(mi)/秒（He）以下 （或更少）

結構要素

外(wai)殼(ke)：SUS316L內(nei)面粗(cu)度

粗糙度(du)：Rmax0.7μm以下 （或(huo)更少）

元件：氧(yang)化鋁陶瓷、Al2O3

密封：PTFE

接頭：1/4”、3/8”、1/2”、3/4”墊片密(mi)封、壓(ya)縮密(mi)封等